新三板创新层公司宇迪光学新增专利信息授权：“一种流量可控式双面研磨机及平面镜加工设备”
时间: 2024-07-26 14:33:26 | 作者: 超细粉加工设备
产品特点
据启信宝，新三板创新层公司宇迪光学（831934）新增专利信息，专利权人为宇迪光学，发明人是冒建军、冒晶晶。专利授权日为2024年6月21日，专利名称为“一种流量可控式双面研磨机及平面镜加工设备”，专利类型为中国实用新型专利，专利申请号为CN4.9。
该专利摘要显示：本实用新型属于平面镜加工的技术领域，具体涉及一种流量可控式双面研磨机及平面镜加工设备。所述双面研磨机包括下研磨盘和上研磨盘，所述上研磨盘的上部周向上贯穿有若干个输送管且其顶部通过输送管连通有储液盘，所述储液盘内部安装有液位传感器且其顶部扣合有盖板，所述盖板上开设有输液孔并通过输液孔贯穿连接有输液管，所述输液管通过输液孔贯穿盖板并延伸至储液盘内部且其端部通过储液盘与输送管连通设置，所述输送管的端部贯穿上研磨盘且其出口与下研磨盘连通设置。本实用新型无需人工判断输送流量，解决了因人工判断操作失误而造成研磨液或磨削液溢出污染环境的问题，保证了平面镜的打磨效果以及双面研磨机的使用寿命。
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